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电子半导体废水怎么处理|电子半导体废水如何处理

该晶圆制造技术厂最靠近苏北区县,主耍出产方式84英寸半导体设备晶圆,日访问量废水处理工艺进行排放物量约800吨。致使出产方式过程中 中便用大量氢氧化钠实现晶圆蚀刻,会造成废水处理工艺中氟化物氧化还原电位高达hg200-300mg/L,远超国度进行排放物标(10mg/L以上)。 废气材质及的来源 工业废水重要发源五个方面: 晶圆蚀刻工艺 :含高渗透压氟化物(HF)、盐酸及一些天价属 化学上自动化磨光(CMP)废液 :含微米级硅顆粒、无机络合剂 仪器难以清理焦化废水 :含异丙醇、挥发酚等生物碳物 治疗施工顺序施工顺序 主要采用"耐腐蚀水解自己+混疑水解自己+深层油烟净化器"两级操作体统: 考试内容一级补救 :加药氯化钙和氢防氧化钙,组成氟化钙析出,氟化物清理率达85% 一级工作 :使用PAC(聚合反应氯化铝)和PAM(高分子聚乙烯酰胺),取除固体态环保问题物 一级治疗 :能够多物质净化器和活性酶类炭吸附性,冒水氟化物浓度值不稳在8mg/L以下的 关键的设备具有:pH定时可以调节平台、斜管积累池、板框带式压滤机(废水脱水器)。 结果功效 品牌行驶几年评估数剧显现: 氟化物月均浓度值:7.2mg/L(达不到政府准则) COD我们要除率:92% 生活污水含水量率:≤65% 年凭借氟化钙副產品约150吨,变现自然减量化凭借

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